 |
Vacuum Melting Electronic Grade Copper SiC Graphite Crucible for Semiconductor Target Material
Detalhes do produto:
| Lugar de origem: | China |
| Marca: | Baidun |
| Número do modelo: | VM-EG400 |
Condições de Pagamento e Envio:
| Quantidade de ordem mínima: | 1 peça |
|---|---|
| Preço: | Negotiate |
| Detalhes da embalagem: | Exportar embalagem de madeira |
| Tempo de entrega: | 25-30 dias |
| Termos de pagamento: | T/T |
| Habilidade da fonte: | 2.000 unidades/mês |
|
Informação detalhada |
|||
| Material: | Carboneto de silício e grafite | Densidade: | 2.21-2.25 g/cm3 |
|---|---|---|---|
| Forma: | Cilíndrico | Resistência à temperatura: | Até 1650°C |
| Processo: | Derretimento a Vácuo | Aplicativo: | Cobre de grau eletrônico para alvos semicondutores |
| Pureza: | 6N (99,9999%) | Atmosfera: | Alto Vácuo |
| Destacar: | electronic grade copper melting crucible,SiC graphite crucible for semiconductors,vacuum melting crucible for target material |
||
Descrição de produto
Vacuum Melting Electronic Grade Copper SiC Graphite Crucible
Ultra-high purity crucible for vacuum melting of 6N (99.9999%) electronic grade copper used in semiconductor sputtering targets. Minimal outgassing and zero contamination design.
Key Features
- Vacuum compatible ultra-low outgassing
- 6N purity retention capability
- Semiconductor grade material quality
- Clean melting for target manufacturing
- Batch traceability documentation
Applications
Semiconductor sputtering target production, electronic grade copper melting, high-purity copper for chip manufacturing, PVD target material preparation.
Deseja saber mais detalhes sobre este produto
